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       隨著(zhù)國內半導體產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展，電子氣體等材料領(lǐng)域亦迎來(lái)機遇，近年來(lái)相關(guān)項目正在陸續投建。日前，昊華化工科技集團股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“昊華科技”）發(fā)布公告，為發(fā)展公司電子化學(xué)品產(chǎn)業(yè)，公司全資子公司黎明化工研究設計院有限責任公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“黎明院”）擬投資建設4600噸/年特種含氟電子氣體項目。

       資料顯示，昊華科技的實(shí)際控制人為中國化工集團有限公司，主營(yíng)業(yè)務(wù)為氟材料、特種氣體、特種橡塑制品、精細化學(xué)品和技術(shù)服務(wù)五大板塊。這次項目的建設主體黎明院為昊華科技旗下全資子公司，其前身黎明化工研究院是原化學(xué)工業(yè)部綜合性研究院，主營(yíng)業(yè)務(wù)包括化學(xué)推進(jìn)劑及原材料、聚氨酯新材料、含氟氣體材料、過(guò)氧化氫及配套原材料等4個(gè)專(zhuān)業(yè)板塊。

       昊華科技指出，電子氣體在半導體領(lǐng)域具有廣泛的應用，是半導體生產(chǎn)過(guò)程中的重要原料之一。近年來(lái)，隨著(zhù)下游半導體、電子器件等市場(chǎng)的快速發(fā)展，我國電子氣體市場(chǎng)規模不斷增大。經(jīng)過(guò)近幾年系列特種含氟電子氣體的開(kāi)發(fā)與推廣，黎明院已成為國內特種含氟電子氣體的供應商之一，為了進(jìn)一步完善特種含氟電子氣體產(chǎn)業(yè)鏈，滿(mǎn)足國內市場(chǎng)需求，黎明院計劃新建年產(chǎn)4600噸特種電子氣體項目。

     根據公告，4600噸/年特種含氟電子氣體項目總投資9.14億元，資金來(lái)源于黎明院自有資金與銀行貸款。項目將采用黎明院自主 研發(fā)專(zhuān)利技術(shù)生產(chǎn)特種含氟氣體總產(chǎn)能4600噸/年，包括3000噸/年三氟化氮、1000噸/年四氟化碳和600噸/年六氟化鎢。

      可行性分析指出，近年來(lái)中國液晶面板行業(yè)、太陽(yáng)能行業(yè)以及半導體行業(yè)發(fā)展迅猛，對其支撐原材料之一的特種含氟電子氣體的需求呈直線(xiàn)上升趨勢，并將在未來(lái)一定時(shí)期維持上漲態(tài)勢。因此，建設特種含氟電子氣體產(chǎn)業(yè)化項目有良好的市場(chǎng)前景，原材料供應有保障，產(chǎn)品需求增速快，符合市場(chǎng)發(fā)展。

       此外，電子級三氟化氮、四氟化碳和六氟化鎢被列為《國家中長(cháng)期科學(xué)和技術(shù)發(fā)展規劃綱要（2006-2020年）》中加快高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)化項目以及國家“863計劃”支持鼓勵的重點(diǎn)新型信息用氣體材料。關(guān)鍵材料電子氣體國產(chǎn)化、規?；瘜ΡＵ蠂医?jīng)濟安全和增強綜合國力具有重大戰略意義。

       據了解，電子級三氟化氮主要用于電子元件的等離子蝕刻及清洗，具有優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性、對表面無(wú)污染。四氟化碳是目前半導體行業(yè)最主要的等離子體蝕刻氣體之一，主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金屬硅化物以及某些金屬的蝕刻。六氟化鎢在電子工業(yè)中作為金屬鎢化學(xué)氣相沉積(CVD)工藝的原材料，用它制成的WSi2可用作大規模集成電路(LSI)中的配線(xiàn)材料，還可用作半導體電極和導電漿糊等的原材料。

       昊華科技表示，本次投資建設的4600噸/年特種含氟電子氣體建設項目，進(jìn)一步完善了特種含氟電子氣體產(chǎn)業(yè)鏈，能夠更好的滿(mǎn)足國內市場(chǎng)的需求，對提高企業(yè)經(jīng)濟效益、抗風(fēng)險能力以及增強可持續發(fā)展能力具有重要意義。項目達產(chǎn)后，會(huì )進(jìn)一步提升公司的營(yíng)業(yè)收入和凈利潤，進(jìn)而會(huì )提高公司的綜合競爭力。

      目前，該項目已完成政府備案手續，環(huán)境影響評價(jià)已獲批復，職業(yè)病危害預評價(jià)已通過(guò)專(zhuān)家評審，昊華科技董事會(huì )亦已審議通過(guò)。